第112章 接近式光刻机 (第2/3页)

赞美诗2号提示您：看后求收藏（雾添花cdij.cn），接着再看更方便。

“咱们一定全力配合！”

王浩然微笑着表示了感谢。

当晚，王浩然就在742厂的招待所住下。

次日早上，张勇存亲自过来陪王浩然一块儿吃早点。

早饭吃完之后，王浩然终于有机会前往742厂的车间参观。

其实也不是专门的参观，而是王浩然要用8086的掩膜版生产处理器芯片的样品。

王浩然进到车间一看，他内心叹了口气：呈现在眼前的压根不是现代化的生产车间，倒像个机械作坊。

设备也都很落后，基本上都是靠熟练工人的经验手感生产。

这种生产模式不是一般的落后啊。

而且，现在的硅片也只有3英寸，算是很小的尺寸了。

可如今在蜥方，主流芯片生产企业已经普遍在使用8寸的硅片了。

硅片尺寸越大，成本效益就越高，毕竟，大硅片意味着可以生产更多的芯片，还可减少生产过程中的废料率。

“浩然同志，这就是咱们自己研发的曝光机。”张勇存特别给王浩然介绍国产的光刻机设备。

那只是个很简陋的工作台，一看便知需要工作人员依靠自己的经验进行大量的操作。

而且，这光刻机还是硬接触式的。

所谓硬接触式光刻机，是指掩膜版跟晶圆上的光刻胶直接接触，紧贴晶圆，中间没有任何间隙。

这就会导致光刻胶污染掩膜版，而掩膜版被污染之后，那基本上就报废了，勉强使用，生产出来的全都是废品。

王浩然说：“张厂长，我现在终于明白为啥咱们良品率那么低了啊。”

“硬接触式的光刻机生产效率太低，而且，容易出废品。”

张勇存叹了口气说道：“您说得对。”

“咱们也一直想要改进呢，但是，目前还没有什么进展。”王浩然想了一下，说道：“张厂长要是相信我，我或者可以把这台光刻机给改进一下。”

“也许只需要一个很小的改进，它就能大幅度提升良品率了。”

王浩然这里嘴上说的只是个小的改进，其实吧，真要改动起来，是需要大动干戈的。

王浩然想要把接触式的光刻机改成接近式光刻机。

所谓接近式光刻机，掩膜版与晶圆之间并不真正接触，而是有了一个非常小的距离。

这个距离只有几个微米，这就可以使得掩膜版和硅片不会直接接触，进而降低了损坏的风险。

王浩然将自己的想法这么一说，张勇存还没说啥呢，刘中友和吴极都是大摇其头。

刘中友说：“浩然同志啊，那么小的距离，人工是没办法操作的。”

“除非设计一个精巧的机械装置。”

“但要设计这样一个机械装置，很难。”

吴极也说：“这个设想，咱们也有过，不过，因为无法实现，就最终放弃了。”

张勇存笑道：“吴工，刘工，伱俩也别先忙着否定，好不好？”

“浩然同志既然都这么说了，那没准他就有办法解决。”

吴极抓了抓自己的头发，有点儿不好意思地说：“我忘了浩然同志比咱们聪明太多这茬儿。”

“浩然同志，你打算怎么改进，咱们给你打下手。”

王浩然说：“我先画个设计图，干脆的，咱们就在试验车间里重新搞一台全新的光刻机出来，怎么样？”

张勇存点头道：“没问题，咱们全力支持！”

“您这可是在帮咱们的忙啊！”

于是，接下来，王浩然就先把接近式光刻机的设计图给画了出来。

设计图好画，但有些技术却是不容易达到的。

王浩然要让这台光刻机拥有一定的自动化规范化的生产能力。

那就需要给它搞个中控电脑。

这样的话，王浩然就要先设计处理器芯片，再搞一款传感器芯片。

他还要编写一个简单的控制程序，让这个程序来自动驱动机器完成曝光这个工作。

至于设备的加工，也是需要他亲自参与，亲力亲为的。

就这么地，王浩然在742厂待了足足二十多天，这才总算是把一台接近式的光刻机给搞了出来。

这台光刻机其实就是先凑合一下。

它设计简单，制造也简单。

当然，它也只能曝光跟掩膜版同样大小的晶圆。

这样的光刻机，目前在国际上也是已经有点儿落伍了。

接近式的光刻机造出来之后，已经是到了1978年的4月底了。

试验车间里，742厂的骨干技术人员和高管几乎都在。

他们看着眼前这台已经跟目前厂内使用的主力曝光机外形迥异的机器，都有点儿兴致勃勃。

当然，他们还有点儿忐忑。

他们不知道这台机器到底怎样，会不会更加好用一些。